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  •  鍍層含硫量低于0.003%,半光亮鎳層與光亮鎳層電位差達120 ~ 145mV,耐蝕性極好;鍍層柔韌性好,覆蓋能力強,填平效果極佳;不含香豆素,分解產物少,鍍液穩定,容易維護;鍍層柔韌性好,沒有針孔和麻點,具有良好的耐蝕性能;鍍液清亮,使用后不會變色;適用于雙層鎳或多層鎳電鍍中的半光亮鎳電鍍工藝。
    HN-M102 半光亮鍍鎳工藝

    1.鍍層含硫量低于0.003%,半光亮鎳層與光亮鎳層電位差達120 ~ 145mV,耐蝕性極好; 

    2. 鍍層柔韌性好,覆蓋能力強,填平效果極佳; 

    3. 不含香豆素,分解產物少,鍍液穩定,容易維護; 

    4. 鍍層柔韌性好,沒有針孔和麻點,具有良好的耐蝕性能;

    5. 鍍液清亮,使用后不會變色; 

    6. 適用于雙層鎳或多層鎳電鍍中的半光亮鎳電鍍工藝。 

     

    主要代表產品:

    HN-M101 半光亮鎳柔軟劑

    HN-M102 半光亮鎳光亮劑

    HN-M103 半光亮鎳穩定劑

    HN-17 半光亮鎳濕潤劑 

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