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  •  分散能力好,低電位區鍍層更為光亮,滾鍍效果極佳;鍍層結晶細致,孔隙率低,耐蝕性能好;鍍液穩定,雜質容忍度高,容易維護;適用于鋼鐵件、銅及銅合金件以及鋅合金件的滾鍍底銅。
    HN-CX 滾鍍堿銅工藝

    1. 分散能力好,低電位區鍍層更為光亮,滾鍍效果極佳; 

    2. 鍍層結晶細致,孔隙率低,耐蝕性能好; 

    3. 鍍液穩定,雜質容忍度高,容易維護; 

    4. 適用于鋼鐵件、銅及銅合金件以及鋅合金件的滾鍍底銅。

     

    主要代表產品:

    HN-CX2 滾鍍堿銅諾切液

    HN-CX3 滾鍍堿銅開缸劑

    HN-CX4 滾鍍堿銅補充劑

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